其他產(chǎn)品及廠家
在高真空環(huán)境中,我們發(fā)明了一種創(chuàng)新的in-line sputter生產(chǎn)技術(shù),實(shí)現(xiàn)了高大量生產(chǎn)率和出色的品質(zhì)。這款1carrier/20sheet(a4 size)產(chǎn)品采用了both side sputtering工藝,不僅提高了生產(chǎn)效率,還確保了優(yōu)異的光學(xué)性能,透過(guò)率可達(dá)25%以上。
更新時(shí)間:2025-03-05
本裝置在真空狀態(tài)中對(duì)pet film，以ito或metal coating的設(shè)備, heating, plasma etching, sputter工序可以.
更新時(shí)間:2025-03-05
propel hvm gan mocvd 系統(tǒng)，用于電源、5g 射頻和光子學(xué)，單晶圓反應(yīng)器技術(shù)為電源、5g 射頻和光子學(xué)應(yīng)用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件
更新時(shí)間:2025-03-05
orion proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)填孔能力以及高沉積速率
更新時(shí)間:2025-03-05
最新產(chǎn)品
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